以修正模型法（altered cast technique）進行下顎遠伸性局部義齒（distal extension partial denture）取模動作時，若欲達成擇壓印模（selective pressure impression）的目的，下列敘述何者錯誤？
頰棚（buccal shelf）區只需少量緩壓（relief）
殘嵴之舌側斜坡（lingual slope of the residual ridge）由於其覆蓋之軟組織較薄，需大量緩壓（relief）
比較黏稠的印模材會讓軟組織有較大的位移
殘嵴尖（crest of residual ridge）常需較多量之緩壓（relief）
