以下關於部分缺牙牙弓個別模托（individual tray）之敘述，何者為非？
個別模托的設計會因不同印模材之使用而不同
製作上顎個別模托時，模托留空蠟（wax spacer）需覆蓋至後腭封（posterior palatal seal），以免造成該處過度受壓
製作下顎個別模托時，頰棚（buccal shelf）區不需提供模托間隙
若用硫醇橡膠印模材（mercaptan rubber-base impression material）取模，個別模托上不需鑽孔
